谱育科技出席第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会暨黄本立院士百岁华诞学术研讨会
发布日期：2024-12-17 点击次数：
11月30日-12月1日，第 23 届全国分子光谱学学术会议和第五届光谱年会暨黄本立院士百岁华诞学术研讨会在福建省厦门市召开。此次盛会由中国光学学会、中国化学会，以及中国光学学会光谱专业委员主办，由厦门大学承办。本次大会汇聚了国内外光谱相关领域的院士、专家学者和企业代表，通过这一平台，与会者不仅分享了各自研究领域的最新成果，并就未来所面临的科技挑战展开了深入探讨。
吴博向与会专家详细介绍了谱育科技ICP-MS/MS与ICP-Q-TOF在超痕量分析领域及瞬态信号分析领域的最新进展。其中，EXPEC 7350S型 ICP-MS/MS基于其优异的检出性能，目前已具备全面覆盖晶圆表面杂质、湿化学品、电子特气、硅烷等典型样品的超痕量分析需求的技术能力，并且可为我国半导体检测设备与技术的国产替代提供强有力的技术支撑。而在瞬态信号分析方面，吴博基于ICP-Q-TOF技术对金属标签掺杂纳米/微米塑料的表征研究为例，介绍了谱育科技在瞬态信号分析领域中的最新进展，并对ICP质谱技术在单颗粒、单细胞的进一步前沿应用进行了展望。
